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鍍膜是在高真空度進行的

2019-05-22 11:40:18

在鍍膜領域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此,在評估薄膜樣品的性能時,有必要測試不同厚度下薄膜樣品的性能。在真空鍍膜的情況下,往往需要多次準備樣品。但是這么多次制備樣品有兩個問題:一,對于不同時間生長的樣品,儀器的狀態是不同的,所以影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度;其次,在真空鍍膜實驗中加載樣品時,再次獲得真空是非常耗時的。和檢測成本增加。

鍍膜

真空鍍膜是一種需要在高真空度下進行的鍍膜,包括真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。在真空鍍膜過程中,磁控濺射靶在發射過程中會產生高溫,使發射變形,所以它有水套來冷卻發射。為了保證水套內的水溫不受環境和自然氣溫的影響,通常需要使用冷水機對真空鍍膜機進行冷卻。

使用電子鍍膜時,在鐘罩外圍要放一塊鋁板。觀察窗的玻璃應采用鉛玻璃,觀察時應佩戴鉛玻璃眼鏡,防止x光對人體造成傷害。2.在離子轟擊和蒸發過程中,要特別注意高壓線接頭,不要觸碰,以防觸電。1.真空鍍膜機正常運行時,必須先打開水管,工作中要注意水壓。


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