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濺射鍍膜是怎么工作的

2021-01-05 16:54:20

磁控濺射技術近年來發展很快,其代表方法有平衡磁控濺射、反應磁控濺射、中頻磁控濺射和高能量脈沖磁控濺射等。

濺射鍍膜工藝主要是將需要鍍膜的材料制備成靶板,固定于濺射鍍膜系統的陰極上,所述靶板的基片置于正對靶表面的陽極上。濺射系統抽到高真空后充入氬氣等,使陰極與陽極之間產生高壓負載,陰陽極之間產生低壓輝光放電。由放電產生的等離子體中,氬氣正離子在電場的作用下向陰極運動,與目標表面發生碰撞,被碰撞而濺射的目標原子被稱為濺射原子,濺射原子的能量一般在一至幾十電子伏范圍內,濺射原子先在基底表面沉積,然后形成膜。濺射膜是指用低氣壓輝光放電產生的氬氣正離子對陰極靶進行高速度的電場轟擊,濺射靶內的原子或分子等粒子,使之沉積到基片或工件表面,從而形成所需的薄膜層。但在鍍膜過程中,濺射出的微粒能量很低,成膜率較低。

濺射鍍膜

磁(ci)控制濺射是獲得高(gao)質量鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)技術中應用最(zui)為(wei)廣泛(fan)的(de)(de)(de)(de)工藝(yi),新型陰極的(de)(de)(de)(de)應用使其(qi)具(ju)有較(jiao)高(gao)的(de)(de)(de)(de)靶材(cai)利用率和較(jiao)高(gao)的(de)(de)(de)(de)沉積速率,真(zhen)空磁(ci)控制濺射鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)工藝(yi)目(mu)前(qian)廣泛(fan)應用于大面積基(ji)材(cai)的(de)(de)(de)(de)鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)中。本方法(fa)不僅(jin)可用于單層膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)沉積,也(ye)可用于多(duo)層膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)鍍(du)(du)制,也(ye)可用于包覆膜(mo)(mo)(mo)(mo)、光學膜(mo)(mo)(mo)(mo)、貼(tie)膜(mo)(mo)(mo)(mo)等的(de)(de)(de)(de)包覆工藝(yi)。

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