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臥式磁控鍍鏡生產線

臥式磁控鍍鏡生產線

  • 所屬分類:臥式磁控鍍膜生產線(xian)
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2021-01-27 15:40:34
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

★該臥式磁控鍍膜生產線可鍍的工藝膜系有:金膜、銀膜、鋁膜、鈦金膜、不銹鋼膜等單質膜和氧化膜、復合膜、增透膜、增亮膜、光學膜、ITO導電膜、EMI屏蔽膜等等。設備能生產的產品有銀鏡、鋁鏡、彩色玻璃、工藝玻璃、光伏玻璃、光電玻璃、ITO導電玻璃、非導玻璃等,以及PC、PVC、PET等材料表面鍍ARAF、ITO、非導等膜和金屬單質膜等工(gong)藝。設備主(zhu)要應用(yong)在手機(ji)鏡(jing)片(pian)和(he)手機(ji)后蓋鍍膜、電子、電器(qi)、軍工、家電、五金、玩具(ju)、汽車、建筑、建材(cai)、燈飾、裝飾等眾多行業領域。本設備的優點:抽速快及穩定、產量高、特殊的傳動結構運行平穩不卡頓(吸收進口設備精華)。高真空部分可根據客戶實際需要全選擇油擴散泵或分子泵,或兩者搭配使用;設計有防返油機構,減少對產品的污染;使用國內或國外知名品牌真空泵機組,加上人性化結構設計理念和智能控制及顯示系統,使設備盡善盡美。

臥式磁控鍍膜生產線

★工藝氣體:氣、氧氣、氮氣等,具(ju)體看(kan)生產(chan)的產(chan)品而定。

★靶材材質:金、銀、銅(tong)、鋁(lv)、鈦、鋯、硅(gui)、鎳、鉻、錫、銦、鈮、不銹鋼等或錫銦、硅(gui)鋁(lv)、鎳鉻等合金。

磁控濺射電(dian)(dian)源:直流電(dian)(dian)源、中頻電(dian)(dian)源、射頻電(dian)(dian)源、離(li)子轟擊電(dian)(dian)源、離(li)子源電(dian)(dian)源(按客(ke)戶需要而定)

★該磁控鍍膜生產線的(de)結(jie)構:有3室4鎖、5室4鎖、5室6鎖、7室6鎖、9室8鎖。

進(jin)片平臺-----前粗抽室(shi)(shi)(進(jin)片室(shi)(shi),粗抽真空泵機組)-----前高真空室(shi)(shi)(精(jing)抽真空泵機組)-----前過渡室(shi)(shi)-----鍍(du)膜(mo)室(shi)(shi)1、2、3(鍍(du)膜(mo)室(shi)(shi)的(de)個數按(an)工藝(yi)而定(ding),精(jing)抽真空泵機組、磁控濺射陰(yin)極靶、氣體系統)-----后過(guo)渡室(shi)-----后高真空(kong)室(shi)(精抽(chou)真空(kong)泵(beng)機組)-----后粗抽(chou)室(shi)(粗抽(chou)真空(kong)泵(beng)機組)-----出片(pian)平臺(如(ru)此循環工作)。

★該磁控(kong)鍍膜生產(chan)線的(de)工作(zuo)流程:有3室(shi)4鎖(suo)(suo)、5室(shi)6鎖(suo)(suo)、7室(shi)6鎖(suo)(suo)、9室(shi)8鎖(suo)(suo),現以7室(shi)6鎖(suo)(suo)為例。

玻璃從清洗機出來進入進片平臺-----前粗抽室放氣數秒并開真空鎖1,玻璃進入前粗抽室到位后關真空鎖1并抽真空(如有轟擊開轟擊,有時需要充入氬氣)-----打開真空鎖2后玻璃進入前高真空室后關真空鎖2繼續抽高真空-----達到一定真空后開鎖3并進入前過渡后關真空鎖3、工件架慢速進入鍍膜室1、2、3進行磁(ci)控(kong)濺射鍍(du)(du)膜工(gong)(gong)作(鍍(du)(du)膜真(zhen)空(kong)度在2×10-1Pa左右(you),按工(gong)(gong)藝而定)-----鍍(du)(du)膜結束后(hou)(hou)(hou)到玻璃走(zou)到過(guo)渡室-----開(kai)真(zhen)空(kong)鎖(suo)(suo)4并進入后(hou)(hou)(hou)高(gao)真(zhen)空(kong)室關真(zhen)空(kong)鎖(suo)(suo)4后(hou)(hou)(hou)停(ting)留一(yi)定時間后(hou)(hou)(hou)-----開(kai)真(zhen)空(kong)鎖(suo)(suo)5并進入后(hou)(hou)(hou)粗抽室后(hou)(hou)(hou)關真(zhen)空(kong)鎖(suo)(suo)5、放氣數秒(miao)后(hou)(hou)(hou)開(kai)真(zhen)空(kong)鎖(suo)(suo)6-----玻璃走(zou)到出片臺后(hou)(hou)(hou)關閉真(zhen)空(kong)鎖(suo)(suo)6-----直接下片或走(zou)到下一(yi)個工(gong)(gong)序(如此循環工(gong)(gong)作)。

臥式磁控鍍膜生產線

磁控濺射工(gong)作原理:電子在電場的(de)作(zuo)用下加速飛向基片(pian)的(de)過程中與氬(氧、氮(dan)等)原子發生(sheng)碰(peng)撞,電離出大量(liang)的(de)氬(氧、氮等)離(li)子(zi)和電子(zi),電子(zi)飛向基(ji)片。氬離(li)子(zi)在電場(chang)的作用下加速轟擊靶材(cai),濺射出(chu)大量(liang)的靶材(cai)原子(zi),呈(cheng)中性的靶原子(zi)(或(huo)分子(zi))沉積在基(ji)片上成膜。二次(ci)電子在(zai)加速(su)飛向基(ji)片的(de)過程中受到(dao)磁場磁力的(de)作用下,被束(shu)縛(fu)在靠近(jin)靶面(mian)的(de)(de)等離(li)(li)子(zi)體區(qu)域內,該(gai)區(qu)域內等離(li)(li)子(zi)體密度(du)很高,二次電(dian)子(zi)在磁(ci)場(chang)的(de)(de)作用(yong)下圍(wei)繞靶面(mian)作圓周(zhou)運動(dong)(dong),該(gai)電(dian)子(zi)的(de)(de)運動(dong)(dong)路徑(jing)很長,在運動(dong)(dong)過(guo)程中不(bu)斷的(de)(de)與氬原子(zi)發生碰(peng)撞電(dian)離(li)(li)出(chu)大量(liang)的(de)(de)氬離(li)(li)子(zi)轟擊靶材,經過(guo)多(duo)次碰(peng)撞后電(dian)子(zi)的(de)(de)能(neng)量(liang)逐漸降低,擺脫磁(ci)力線(xian)的(de)(de)束(shu)縛(fu),遠離(li)(li)靶材,最(zui)終沉積在基片(pian)上。磁(ci)控(kong)濺射就是(shi)以(yi)磁(ci)場(chang)束(shu)縛(fu)和(he)延長電(dian)子(zi)的(de)(de)運動(dong)(dong)路徑(jing),改變電(dian)子(zi)的(de)(de)運動(dong)(dong)方(fang)向,提高工作氣體的(de)(de)電(dian)離(li)(li)率和(he)有效利用(yong)電(dian)子(zi)的(de)(de)能(neng)量(liang)。磁(ci)控(kong)濺射的(de)(de)基本原理是(shi)利用(yong) Ar一02或N2混合氣體中(zhong)的(de)等(deng)離(li)子體在電場(chang)和(he)交變磁(ci)場(chang)的(de)作用下,被加(jia)速的(de)高能粒子轟擊(ji)靶材表(biao)(biao)面,能量交換后,靶材表(biao)(biao)面的(de)原子脫離(li)原晶格而逸出(chu),轉移到基體表(biao)(biao)面而成膜。

臥式磁控鍍膜生產線

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